| 反应溅射Ti-Si-N纳米晶复合薄膜研究 |
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| 引用本文： | 戴嘉维,胡祖光,祝新发,陈练,李戈扬. 反应溅射Ti-Si-N纳米晶复合薄膜研究[J]. 电子显微学报, 2004, 23(4): 372-372 |
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| 作者姓名： | 戴嘉维 胡祖光 祝新发 陈练 李戈扬 |
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| 作者单位： | 1. 上海交通大学材料科学与工程学院,上海,200030
2. 上海工具厂有限公司,上海,200093 |
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| 基金项目： | 上海市专利技术二次开发项目 (No .0 3 72 5 0 5 2 ) |
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| 摘 要： | Veprek等报道了采用气相沉积方法获得硬度高达80～105GPa的Ti-Si-N薄膜，令人惊讶!尽管尚无人从实验上重复出这一结果，但大量研究。表明，在TiN或其他过渡金属化合物中加入Si，形成以Si2N4界面相分隔并包裹氮化物纳米晶的微结构的确是一条通过微结构设计获得高硬度薄膜的有效途
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| 关 键 词： | 钛-硅-氮复合薄膜 纳米晶体 反应溅射法 透射电子显微镜 结构分析 |
Study on reactive sputtered Ti-Si-N nanocomposite films |
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