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双靶共溅射TiAl系高温耐磨薄膜制备与研究
引用本文:张晔,殷春云,李长生. 双靶共溅射TiAl系高温耐磨薄膜制备与研究[J]. 真空, 2013, 50(5)
作者姓名:张晔  殷春云  李长生
作者单位:常州机电职业技术学院模具技术系,江苏常州,213164
摘    要:在同一次双靶共溅射过程中,通过改变基体相对于靶材的位置制备了不同化学成份TiAl系金属间化合物薄膜.采用EDS、XRD、SEM、AFM等手段对薄膜的成分、物相结构和表面形貌进行了表征,并对薄膜的高温摩擦行为进行了分析研究.实验结果表明:薄膜的化学成分、物相结构、表面形貌都随着溅射位置的改变而发生变化,500℃以下时位于双靶中间位置的薄膜具有体系中最佳的性能.

关 键 词:双靶共溅射  金属间化合物薄膜  物相结构  高温摩擦行为

Research on the fabrication of Ti-Al series intermetallic films by double-target co-sputtering
ZHANG Ye , YIN Chun-yun , LI Chang-sheng. Research on the fabrication of Ti-Al series intermetallic films by double-target co-sputtering[J]. Vacuum(China), 2013, 50(5)
Authors:ZHANG Ye    YIN Chun-yun    LI Chang-sheng
Abstract:
Keywords:double target co-sputtering  intermetallic films  microstructure  friction behavior under high temperature
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