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Al掺杂对ZnO薄膜结构和光学性能的影响
作者姓名:杨帆  周昕  何明灿  周响亮  彭峰  李雪勇
作者单位:湖南工业大学 理学院;湖南工业大学 理学院;湖南工业大学 理学院;湖南工业大学 理学院;湖南工业大学 理学院;湖南工业大学 理学院
基金项目:湖南工业大学大学生研究性学习和创新性实验计划基金资助项目(湖工大教字[2013]19-23),湖南省教育厅科研基金资助项目(13C020)
摘    要:研究了Al掺杂对采用直流磁控溅射方法制备的ZnO薄膜结构及光学性能的影响。X射线衍射结果揭示薄膜具有良好的C轴择优取向生长特性,同时,衬底温度对它们的透射谱和荧光谱有着明显影响,所有薄膜都有大于86%的可见光透过率和陡峭的本征吸收边,但ZAO薄膜的光学透过率略低。Al掺杂导致了更宽的光学带隙,光致发光光谱显示ZnO具有较强的近带本征吸收峰和深能级发射峰,但Al掺杂使得深能级发射峰降低。随着衬底温度的升高,近带边吸收峰蓝移,与光学带隙Eg变化趋势一致。

关 键 词:Al掺杂ZnO  磁控溅射  晶体结构  光学性质
收稿时间:2013-12-20
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