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表面杂质浓度分布对晶体管负阻特性的影响
引用本文:
裴素华,薛成山,赵善麒.表面杂质浓度分布对晶体管负阻特性的影响[J].半导体学报,1998,19(3):202-205.
作者姓名:
裴素华
薛成山
赵善麒
作者单位:
山东师范大学,北京电子新技术研究开发中心
摘 要:
本文对镓、镓-硼两种基区的3DD202型晶体管负阻摆幅现象进行了比较和理论分析,证明了基区表面杂质浓度分布对器件发射极-集电极电压负阻特性有较大影响.找到了改善晶体管击穿特性的具体措施
关 键 词:
晶体管
表面杂质
浓度分布
负阻特性
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