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发展氮化镓集成电路的考虑
引用本文:袁明文.发展氮化镓集成电路的考虑[J].微纳电子技术,2003,40(6):1-5.
作者姓名:袁明文
作者单位:中电科集团第十三研究所,河北,石家庄,050051
摘    要:介绍了氮化镓微电子器件的优势和现状。提出将GaNHEMT作为微波器件用于混合微波集成电路(MIC)和微波单片集成电路(MMIC),在射频输出功率、器件优值等方面,均具有明显优点,并列举了成功的例子。为了加快发展MMIC,必须解决好几个关键问题,即提高材料质量和尺寸,完善制造工艺,克服器件电流下降、增益过早饱和与射频输出功率退化等现象。

关 键 词:微波单片集成电路  高电子迁移率晶体管  氮化镓
文章编号:1671-4776(2003)06-0001-05
修稿时间:2003年3月26日

Consideration of GaN IC development
YUAN Ming-wen.Consideration of GaN IC development[J].Micronanoelectronic Technology,2003,40(6):1-5.
Authors:YUAN Ming-wen
Abstract:The advantage and status of GaN microelectronic devices have been briefly shown in this paper.The GaN HEMT as a microwave device for hybrid microwave integrated circuit(MIC)and microwave monolithic integrated circuit(MMIC)benefits from both RF output power and de-vices figure of merit,such as hybrid MIC packaged and high-power broadband MMIC.There are some key problems for rapidly developing MMIC,for example,the improvement of material qual-ity and size,optimization of process technology,overcome the phenomena of current slump ,the premature saturation and degradation of RF output power.
Keywords:MMIC  HEMT  GaN
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