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高岭石-氨基硅烷插层复合物的制备与表征
引用本文:纪阳,刘钦甫,杜妍娜,李晓光,张帅,左小超.高岭石-氨基硅烷插层复合物的制备与表征[J].硅酸盐学报,2015,43(4).
作者姓名:纪阳  刘钦甫  杜妍娜  李晓光  张帅  左小超
作者单位:中国矿业大学(北京)地球科学与测绘工程学院,北京,100083
基金项目:国家自然科学基金重点项目,北京市共建项目专项资助
摘    要:以高岭石-甲醇(K-M)复合物为前驱体,利用置换法于常温下制备了3种高岭石-氨基硅烷插层复合物。用X射线衍射、Fourier变换红外光谱仪、透射电子显微镜、热分析仪等对复合物进行了表征。结果表明:3种高岭石-氨基硅烷插层复合物的层间距均扩大至2nm以上,插层率都大于95%。3种氨基硅烷分子均和K-M前驱体的甲氧基共同存在于高岭石层间,均呈两层倾斜排列,倾斜程度不同。氨基硅烷的插入破坏了高岭石层间的氢键,加剧了高岭石自身结构中硅氧四面体片层与铝氧八面体片层之间的错位,使得复合物片层出现不同程度的卷曲变形。3种高岭石-氨基硅烷插层复合物的热分解过程均分三步进行:表面水的蒸发及层间甲氧基的脱嵌分解、插层剂氨基硅烷分子的脱嵌、高岭石脱羟基。

关 键 词:高岭石  氨基硅烷  插层复合物  层间距

Preparation and Characterization of Kaolinite-Aminosilane Intercalation Compounds
JI Yang,LIU Qinfu,DU Yanna,LI Xiaoguang,ZHANG Shuai,ZUO Xiaochao.Preparation and Characterization of Kaolinite-Aminosilane Intercalation Compounds[J].Journal of The Chinese Ceramic Society,2015,43(4).
Authors:JI Yang  LIU Qinfu  DU Yanna  LI Xiaoguang  ZHANG Shuai  ZUO Xiaochao
Abstract:
Keywords:kaolinite  aminosilane  intercalation compound  layer spacing
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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