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ZnS薄膜的水浴法制备及其光学性能
引用本文:崔占奎,邹正光,龙飞.ZnS薄膜的水浴法制备及其光学性能[J].材料导报,2008,22(2):132-134.
作者姓名:崔占奎  邹正光  龙飞
作者单位:桂林工学院有色金属及材料加工新技术教育部重点实验室,桂林,541004;桂林工学院有色金属及材料加工新技术教育部重点实验室,桂林,541004;桂林工学院有色金属及材料加工新技术教育部重点实验室,桂林,541004
摘    要:以酒石酸和柠檬酸钠为络合剂,采用水浴法(CBD)制备ZnS薄膜.利用X射线衍射(XRD)、X射线能谱仪(EDAX)、扫描电镜(SEM)、紫外-可见分光光度计(UV-vis)研究ZnS薄膜的结构、成分、形貌及光学性能.利用透射光谱计算了ZnS薄膜的光学禁带宽度.结果表明:ZnS薄膜呈立方相晶体结构,水浴沉积时间为3h的ZnS薄膜原子比Zn∶S为1∶0.85,薄膜表面均一致密,在可见光区有着好的透射性能,在300~800 nm的光谱范围内平均透射率达到80.8%,光学禁带宽度为3.78eV,适合作为太阳能电池过渡层.

关 键 词:水浴法  ZnS  薄膜  光学性能

Chemical bath deposition of ZnS thin films and its optical properties
CUI Zhankui,ZOU Zhengguang,LONG Fei.Chemical bath deposition of ZnS thin films and its optical properties[J].Materials Review,2008,22(2):132-134.
Authors:CUI Zhankui  ZOU Zhengguang  LONG Fei
Abstract:
Keywords:ZnS
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