| 沉积速率及相关工艺条件对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜性质的影响 |
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| 引用本文： | 张永熙,沈杰,杨锡良,陈华仙,陆明,严学俭,章壮健.沉积速率及相关工艺条件对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜性质的影响[J].真空科学与技术学报,2000,20(1):13-18. |
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| 作者姓名： | 张永熙 沈杰 杨锡良 陈华仙 陆明 严学俭 章壮健 |
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| 作者单位： | ：张永熙(复旦大学材料科学系 上海 200433);沈 杰(复旦大学材料科学系 上海 200433);杨锡良(复旦大学材料科学系 上海 200433);陈华仙(复旦大学材料科学系 上海 200433);陆 明(复旦大学材料科学系 上海 200433);严学俭(复旦大学材料科学系 上海 200433) |
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| 摘 要： | 在玻璃基板上用直流反应磁控溅射钛靶的方法制备TiO
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| 关 键 词： | 二氧化钛薄膜 反应磁控溅射 沉积速率 折射率 晶体结构 |
| 修稿时间： | 1998年12月10 |
Influence of Deposition
Rate and Relative Parameters on Propertiesof TiO2 Thin Films Prepared by DC
Reactive Magnetron Sputtering |
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| Zhang Yongxi,Shen Jie,Yang
Xiliang,Chen Huaxian,Lu Ming,Yan Xuejian,Zhang Zhuangjian.Influence of Deposition
Rate and Relative Parameters on Propertiesof TiO2 Thin Films Prepared by DC
Reactive Magnetron Sputtering[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2000,20(1):13-18. |
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| Authors: | Zhang Yongxi Shen Jie Yang
Xiliang Chen Huaxian Lu Ming Yan Xuejian Zhang Zhuangjian |
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| Affiliation: | Zhang Yongxi,Shen Jie,Yang
Xiliang,Chen Huaxian,Lu Ming,Yan Xuejian,Zhang Zhuangjian;
(Department of Materials Science,Fudan University,Shanghai,200433) |
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| Abstract: | |
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