红外探测用PbTiO_3铁电薄膜门场效应晶体管 |
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引用本文: | M.Okuyama,Y.Matsui,刘一声.红外探测用PbTiO_3铁电薄膜门场效应晶体管[J].压电与声光,1982(3). |
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作者姓名: | M.Okuyama Y.Matsui 刘一声 |
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作者单位: | 日本大阪大学基础工程系,日本大阪大学基础工程系 |
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摘 要: | 制成了PbTiO_3铁电薄膜门FET,它是作为在室温下工作和在宽的频谱范围内具有红外灵敏度的红外探测器之用。在铂箔上用RF溅射法沉积PbTiO_3膜的介电常数为200,最大剩余极化为27微库/厘米~2。沉积在涂铂云母上的膜获得了电压响应率R和探测率D分别为330伏/瓦和1.5×10~8厘米赫~(1/2)/瓦(20赫、1赫)的热电响应。测量是从白炽灯光源通过Ge滤光器的红外光辐照下进行的。为控制电流沟道上的表面势,在SiMOSFET门上沉积了PbTiO_3薄膜。FET也具有R_v和D分别为390伏/瓦和3.5×10~5厘米赫~(1/2)/瓦的热电灵敏度。在CO_2激光器脉冲辐照下通过测量输出获得了上升时间为~3.5微米的快速响应。
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