| 移动Ni-5W基带上制备钇系涂层导体隔离层的研究 |
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| 引用本文： | 刘慧舟,杨坚,张华,古宏伟.移动Ni-5W基带上制备钇系涂层导体隔离层的研究[J].稀有金属,2008,32(5). |
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| 作者姓名： | 刘慧舟 杨坚 张华 古宏伟 |
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| 作者单位： | 北京有色金属研究总院超导材料研究中心,北京,100088 |
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| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划(863计划) |
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| 摘 要： | 采用电子束蒸发和磁控溅射两种工艺在移动的Ni-5W合金基带上制备了Y2O3隔离层,研究了镀膜过程中基带移动速度对隔离层性能的影响,同时详细比较了两种镀膜方法.利用扫描电镜、X射线衍射等手段对Y2O3隔离层进行了分析.结果表明:通过严格控制工艺条件,两种方法都能在移动Ni-5W合金基带上制备高立方织构、表面致密光滑的Y2O3隔离层.研究发现,电子束蒸发工艺中,理想的基带移动速度是0.4～1.0 mm·s-1;磁控溅射工艺中,适宜的基带移动速度应该是0.5～2.0mm·s-1.
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| 关 键 词： | 涂层导体 连续沉积(隔离层) 电子束蒸发 溅射 |
Deposition of Y203 Buffer Layer for Coated Conductors on Moving Ni-5W Substrate |
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| Liu Huizhou,Yang Jian,Zhang Hua,Gu Hongwei.Deposition of Y203 Buffer Layer for Coated Conductors on Moving Ni-5W Substrate[J].Chinese Journal of Rare Metals,2008,32(5). |
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| Authors: | Liu Huizhou Yang Jian Zhang Hua Gu Hongwei |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Y2O3 |
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