| 单槽脉冲电沉积制备钴/铂多层膜及其性能表征 |
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| 引用本文： | 吴琼,卫国英,余云丹,葛洪良. 单槽脉冲电沉积制备钴/铂多层膜及其性能表征[J]. 电镀与涂饰, 2008, 27(6): 1-3 |
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| 作者姓名： | 吴琼 卫国英 余云丹 葛洪良 |
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| 作者单位： | 中国计量学院材料科学与工程学院,浙江杭州,310018 |
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| 摘 要： | 在由0.1mol/L Co(NH2SO3)2、0.01mol/LPt(NO2)2(NH3)2和0.1mol/L NH2CH2COOH组成的镀液中,通过循环伏安法得到了Co2 和Pt2 在铜基底上的沉积电位。利用单槽电位脉冲沉积法制备了Co/Pt多层膜,并研究了脉冲电位对薄膜结构和磁性能的影响。结果表明:脉冲上限电位和下限电位相差较小时,Co/Pt磁性薄膜具有取向生长的fcc相结构,界面合金的形成使其具有较大的垂直各向异性和矫顽力。通过计算δM曲线,揭示在脉冲上限电位为–0.6V、下限电位为–0.95V的条件下制备的Co/Pt多层膜中存在交换耦合作用,产生了剩磁增强效应。
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| 关 键 词： | 钴/铂多层膜 铜 脉冲电沉积 相结构 磁性 |
Cobalt/platinum multilayer prepared by pulse electro-deposition in a single cell and its characterization |
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| WU Qiong,WEI Guo-ying,YU Yun-dan,GE Hong-liang. Cobalt/platinum multilayer prepared by pulse electro-deposition in a single cell and its characterization[J]. Electroplating & Finishing, 2008, 27(6): 1-3 |
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| Authors: | WU Qiong WEI Guo-ying YU Yun-dan GE Hong-liang |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | cobalt/platinum multilayer copper pulse electrodeposition phase structure magnetism |
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