| 高度取向的(Pb0.5Sr0.5)TiO3/LaNiO3异质结构铁电薄膜性能 |
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| 引用本文： | 程铁栋,杨丽荣,唐新桂,易见兵. 高度取向的(Pb0.5Sr0.5)TiO3/LaNiO3异质结构铁电薄膜性能[J]. 功能材料与器件学报, 2010, 16(4) |
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| 作者姓名： | 程铁栋 杨丽荣 唐新桂 易见兵 |
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| 作者单位： | 江西理工大学机电学院,赣州;广东工业大学物理与光电工程学院,广州;江西理工大学机电学院,赣州;广东工业大学物理与光电工程学院,广州 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金,广东省自然科学基金资助项目 |
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| 摘 要： | 用sol-gel方法在Pt(111)/Ti/SiO2/Si(100)衬底上制备了具有LaN iO3(LNO)缓冲层的(Pb0.5Sr0.5)TiO3(PSrT50)/LNO/Pt异质结构铁电薄膜。X射线分析发现PSrT50薄膜在(100)方向高度取向,同时扫描电镜图像显示薄膜结构致密、表面平整。通过和直接在Pt上制备的、相同厚度的PSrT50薄膜比较,PSrT50/LNO/Pt结构薄膜在室温下具有更大的剩余极化(Pr=4.5μC/cm2)和更高的介电常数(rε=850)。同时,漏电流机理分析表明,PSrT50/LNO/Pt结构薄膜在低电场作用下呈现Pool-Frenkel发射效应,在高电场作用下则表现为空间电荷限制电流。
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| 关 键 词： | PSrTS0薄膜 介电常数 漏电流 Pool-Frenkel发射 |
Highly oriented (Pb0.5Sr0.5)TiO3/LaNiO3 heterostructures ferroelectric thin films |
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| Abstract: | |
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