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| 混合靶磁控反应溅射制备铁掺杂TiO_2光催化剂薄膜 | |
| 引用本文： | 张文杰,李汝愿,李瑛,朱圣龙,王福会.混合靶磁控反应溅射制备铁掺杂TiO_2光催化剂薄膜[J].真空科学与技术学报,2010,30(3). |
| 作者姓名： | 张文杰 李汝愿 李瑛 朱圣龙 王福会 |
| 作者单位： | 1. 沈阳理工大学环境与化学工程学院,沈阳,110168;中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,沈阳,110016 2. 沈阳理工大学环境与化学工程学院,沈阳,110168 3. 中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,沈阳,110016 |
| 摘 要： | 采用直流磁控反应混合靶共溅射的方法,在玻璃基体上制备出了Fe掺杂的TiO2膜,优化了沉积条件以制备出均匀透明的TiO2膜。通过调整固定在Ti靶上的Fe片面积可以控制膜中Fe的浓度。随着Fe浓度的增加,膜的表面形貌从平整变得粗糙。Fe含量低的膜为锐钛矿晶体结构,在Fe含量高的膜中出现了Fe的氧化物。在纯TiO2膜中钛以Ti4+的形式存在,而在含Fe的膜中钛的氧化态下降,出现了混合价态。Fe的存在导致膜的光谱吸收边沿向可见光谱方向移动。Fe掺杂浓度低的膜比纯TiO2膜表现出了更强的光催化活性。另一方面,过多Fe的掺杂导致TiO2膜的光催化活性快速下降。 |
| 关 键 词： | 光催化 磁控溅射 Fe掺杂 |
Growth of Fe-Doped TiO2 Photo-Catalyst Films by Reactive Magnetron Co-Sputtering |
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| Zhang Wenjie,Li Ruyuan,Li Ying,Zhu Shenglong,Wang Fuhui.Growth of Fe-Doped TiO2 Photo-Catalyst Films by Reactive Magnetron Co-Sputtering[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2010,30(3). | |
| Authors: | Zhang Wenjie Li Ruyuan Li Ying Zhu Shenglong Wang Fuhui |
| Abstract: | |
| Keywords: | TiO2 |
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