| 热氧化法制备二氧化钒薄膜及其相变温度研究 |
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| 引用本文： | 曾富强,叶勤,张俊双,王权康,李仕萍.热氧化法制备二氧化钒薄膜及其相变温度研究[J].真空,2011,48(2):22-24. |
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| 作者姓名： | 曾富强 叶勤 张俊双 王权康 李仕萍 |
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| 作者单位： | 1. 暨南大学物理系,广东,广州,510632
2. 暨南大学光电工程系,广东,广州,510632 |
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| 摘 要： | 采用直流磁控溅射在普通玻璃衬底上沉积金属V膜,然后在空气中热氧化制备VO2薄膜.用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、傅里叶变换红外光谱仪(FT-IR)和X射线衍射光电子能谱仪(XPS)分析氧化温度对薄膜的微观结构、光学透过率、相变温度及其组分的影响.结果表明:金属V膜在空气中400℃热氧化1 h得到相变温...
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| 关 键 词： | 二氧化钒薄膜 热氧化 磁控溅射 相变温度 |
Phase transition temperature of VO2 films prepared by thermal oxidation |
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| ZENG Fu-qiang,YE Qin,ZHANG Jun-shuang,WANG Quan-kang,LI Shi-ping.Phase transition temperature of VO2 films prepared by thermal oxidation[J].Vacuum,2011,48(2):22-24. |
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| Authors: | ZENG Fu-qiang YE Qin ZHANG Jun-shuang WANG Quan-kang LI Shi-ping |
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| Affiliation: | ZENG Fu-qiang1,YE Qin1,ZHANG Jun-shuang1,WANG Quan-kang1,LI Shi-ping2 (1.Department of Physics,Jinan University,Guangzhou 510632,China,2.Department of Photoelectric Engineering,China) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | VO2 films thermal oxidation magnetron sputtering phase transition temperature |
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