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锆表面磁过滤阴极真空弧离子镀Cr涂层高温蒸汽氧化行为研究
作者姓名:王兴平  魏克俭  廖斌  关浩浩  陈琳  杜建成  徐驰  薛文斌
作者单位:北京师范大学核科学与技术学院射线束技术教育部重点实验室,北京师范大学核科学与技术学院射线束技术教育部重点实验室,北京师范大学核科学与技术学院射线束技术教育部重点实验室,北京师范大学核科学与技术学院射线束技术教育部重点实验室,北京市辐射中心,北京师范大学核科学与技术学院射线束技术教育部重点实验室,北京师范大学核科学与技术学院射线束技术教育部重点实验室,北京师范大学核科学与技术学院射线束技术教育部重点实验室
基金项目:核材料创新基金(ICNM-2020-YZ-04),北京市自然科学基金(2172029)和国家自然科学(51671032)
摘    要:采用磁过滤阴极真空弧离子镀(FCVAD)技术在纯锆表面制备了厚度约为4 μm的Cr金属层,对比研究了它们在不同温度水蒸汽环境中的氧化行为,并利用XRD、XPS、SEM及EDS分析了 Cr涂层及氧化膜的物相组成、微观结构及成分分布.结果表明,在900、1000和1100℃水蒸汽环境中,镀Cr涂层大幅度降低了锆的氧化速率,...

关 键 词:纯锆  磁过滤阴极真空弧离子镀  Cr涂层  高温蒸汽氧化  氧化动力学
收稿时间:2020-05-30
修稿时间:2020-06-25
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