锆表面磁过滤阴极真空弧离子镀Cr涂层高温蒸汽氧化行为研究 |
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作者姓名: | 王兴平 魏克俭 廖斌 关浩浩 陈琳 杜建成 徐驰 薛文斌 |
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作者单位: | 北京师范大学核科学与技术学院射线束技术教育部重点实验室,北京师范大学核科学与技术学院射线束技术教育部重点实验室,北京师范大学核科学与技术学院射线束技术教育部重点实验室,北京师范大学核科学与技术学院射线束技术教育部重点实验室,北京市辐射中心,北京师范大学核科学与技术学院射线束技术教育部重点实验室,北京师范大学核科学与技术学院射线束技术教育部重点实验室,北京师范大学核科学与技术学院射线束技术教育部重点实验室 |
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基金项目: | 核材料创新基金(ICNM-2020-YZ-04),北京市自然科学基金(2172029)和国家自然科学(51671032) |
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摘 要: | 采用磁过滤阴极真空弧离子镀(FCVAD)技术在纯锆表面制备了厚度约为4 μm的Cr金属层,对比研究了它们在不同温度水蒸汽环境中的氧化行为,并利用XRD、XPS、SEM及EDS分析了 Cr涂层及氧化膜的物相组成、微观结构及成分分布.结果表明,在900、1000和1100℃水蒸汽环境中,镀Cr涂层大幅度降低了锆的氧化速率,...
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关 键 词: | 纯锆 磁过滤阴极真空弧离子镀 Cr涂层 高温蒸汽氧化 氧化动力学 |
收稿时间: | 2020-05-30 |
修稿时间: | 2020-06-25 |
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