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| 基于硅外延片用石墨基座的温度均匀性研究 | |
| 引用本文： | 冯永平,何文俊,任凯.基于硅外延片用石墨基座的温度均匀性研究[J].电子与封装,2022,22(4):59-63. |
| 作者姓名： | 冯永平 何文俊 任凯 |
| 作者单位： | 南京国盛电子有限公司,南京 211153 |
| 摘 要： | |
| 关 键 词： | 电磁感应 石墨基座 石墨材料 基座结构 电阻率均匀性 |
Research on Temperature Uniformity Based on Graphite Susceptor for Silicon Epitaxial Wafer |
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| FENG Yongping,HE Wenjun,REN Kai.Research on Temperature Uniformity Based on Graphite Susceptor for Silicon Epitaxial Wafer[J].Electronics & Packaging,2022,22(4):59-63. | |
| Authors: | FENG Yongping HE Wenjun REN Kai |
| Abstract: | |
| Keywords: | |
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