| 高密度螺旋波等离子体源的应用进展 |
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| 引用本文： | 柏洋,赵岩,金成刚,余涛,吴雪梅,诸葛兰剑.高密度螺旋波等离子体源的应用进展[J].微纳电子技术,2011,48(11):739-743. |
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| 作者姓名： | 柏洋 赵岩 金成刚 余涛 吴雪梅 诸葛兰剑 |
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| 作者单位： | 1. 苏州大学物理系;苏州大学江苏省薄膜材料重点实验室,苏州 215006
2. 苏州大学分析测试中心;苏州大学江苏省薄膜材料重点实验室,苏州 215006 |
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| 基金项目： | 国家磁约束核聚变能研究专项资助(2010GB106000,2010GB106009); 国家自然科学基金(10975106); “青蓝工程”资助 |
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| 摘 要： | 首先介绍了螺旋波的定义、螺旋波等离子体源产生等离子体所需条件的工作范围以及螺旋波等离子体源主要的一些应用.按照所加磁场范围的不同(分为在磁感应强度为100～1 600 Gs和在强磁场中两部分),分别进一步讨论了国内外各研究小组研制的等离子体源的运行参数及技术特点.随后介绍了螺旋波等离子体源在刻蚀、薄膜沉积和火箭推进三个...
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| 关 键 词： | 螺旋波 等离子体源 磁场 刻蚀 薄膜沉积 火箭推进 |
Application Progresses of High-Density Helicon Wave Plasma Sources |
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| Bo Yang,Zhao Yan,Jin Chenggang,Yu Tao,Wu Xuemei,Zhuge Lanjian.Application Progresses of High-Density Helicon Wave Plasma Sources[J].Micronanoelectronic Technology,2011,48(11):739-743. |
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| Authors: | Bo Yang Zhao Yan Jin Chenggang Yu Tao Wu Xuemei Zhuge Lanjian |
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| Affiliation: | Bo Yanga,c,Zhao Yana,Jin Chengganga,Yu Taoa,Wu Xuemeia,Zhuge Lanjianb,c(a.Department of Physics,b.Analysis and Testing Center,c.Jiangsu Key Laboratory of Thin Film,Soochow University,Suzhou 215006,China) |
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| Abstract: | The definition of helicon waves,the required working range of the helicon wave plasma source to generate the plasma and some of the main applications for the helicon wave plasma source are introduced.According to different ranges of applied magnetic field(in the range of 100-1 600 Gs magnetic field and in the strong magnetic field),the operating parameters and technical characteristics of the plasma sources developed by the research teams at home and abroad are further discussed,respectively.Then the applic... |
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| Keywords: | helicon wave plasma source magnetic field etching thin film d eposition rocket propulsion |
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