| 一种新型光刻系统的研究 |
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| 引用本文： | 陈芬,刘立军,彭宗举,冯伯儒,张锦.一种新型光刻系统的研究[J].大气与环境光学学报,2001(2). |
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| 作者姓名： | 陈芬 刘立军 彭宗举 冯伯儒 张锦 |
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| 作者单位： | 四川师范学院物理系 !南充637002，四川师范学院物理系 !南充637002，四川师范学院物理系 !南充637002，中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室! 成都610209，中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室 !成都610209 |
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| 摘 要： | 介绍了一种新型的光刻系统－全内反射全息光刻系统。着重讨论了设计该系统时的几个重要因素，给出了用该系统开展的实验研究结果。
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| 关 键 词： | 全息光刻 全内反射(TIR)全息 |
Analysis on a New Lithography System |
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| Chen Fen, Liu Lijun, Peng Zongiu, Feng Boru, Zhang Jin.Analysis on a New Lithography System[J].Journal of Atmospheric and Environmental Optics,2001(2). |
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| Authors: | Chen Fen Liu Lijun Peng Zongiu Feng Boru Zhang Jin |
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| Abstract: | A new type lithography experiment of holographic microlithography with total internal reflection (TIR) is reported in this paper. Some important factors in this system design are discussed in detail. The experimental results with the system are presented. |
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| Keywords: | holographic lithography TIR holography |
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