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锗基底3~5μm和8~12μm双波段红外增透膜研究
引用本文:潘永强,朱 昌,杭凌侠,宋俊杰.锗基底3~5μm和8~12μm双波段红外增透膜研究[J].激光与红外,2004,34(5):372-374.
作者姓名:潘永强  朱 昌  杭凌侠  宋俊杰
作者单位:西安工业学院光电工程学院,陕西,西安,710032;西安工业学院光电工程学院,陕西,西安,710032;西安工业学院光电工程学院,陕西,西安,710032;西安工业学院光电工程学院,陕西,西安,710032
摘    要:文中简要叙述了双波段(3~5μm 和8~12μm) 红外增透膜的膜料选择以及锗基底上红外双波段增透膜的设计与镀制,介绍了离子束辅助沉积技术制备该薄膜的过程。提出了采用脉冲真空电弧离子镀技术镀制无氢类金刚石膜作为红外增透膜的保护膜,并讨论了镀制类金刚石膜后,镀膜元件的光谱特性。

关 键 词:双波段  红外增透膜  离子束辅助沉积  类金刚石膜
文章编号:1001-5078(2004)05-0372-03
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