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东芝和NEC合作开发32nm工艺
摘 要:
继东芝和NEC从2006年2月共同开发45nm工艺技术后,两公司又于2007年11月底达成协议,合作开发下一代32nm工艺。开发工作将仍在东芝公司设在横滨的先进微电子中心进行。这次开发工作仅就32nm基础技术达成了协议,其他技术将另作协议。
关 键 词:
合作开发
东芝公司
NEC
工艺
技术
协议
微电子
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