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平面工艺Si-PIN低能X射线探测器研制
引用本文:张万昌,何高魁,黄小健,乌如恭桑,孙亮.平面工艺Si-PIN低能X射线探测器研制[J].核电子学与探测技术,2009,29(1).
作者姓名:张万昌  何高魁  黄小健  乌如恭桑  孙亮
作者单位:中国原子能科学研究院,北京,102413
摘    要:叙述了用平面工艺技术制备Si-PIN低能X射线探测器的工艺方法.为了减小探测器的漏电流,采用了表面钝化和保护环技术.文章给出了厚度500μm,灵敏面积分别为5 mm2、10mm2的不同探测器在室温下漏电流测量结果以及5mm2的探测器在室温及温差电致冷条件下对55Fe5.9keV X射线的能谱响应测量结果.

关 键 词:平面工艺技术  Si-PIN探测器  能量分辨率

Development of Low Energy X-ray Si-PIN Detectors Based on Planar technology
ZHANG Wan-chang,HE Gao-kui,HUANG Xiao-jian,WURU Gong-sang,SUN Liang.Development of Low Energy X-ray Si-PIN Detectors Based on Planar technology[J].Nuclear Electronics & Detection Technology,2009,29(1).
Authors:ZHANG Wan-chang  HE Gao-kui  HUANG Xiao-jian  WURU Gong-sang  SUN Liang
Abstract:
Keywords:
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