| 自组装单分子膜的末端基团对化学气相沉积铜薄膜的影响 |
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| 引用本文： | 刘铮铮,王琦,刘鑫,包杰琼.自组装单分子膜的末端基团对化学气相沉积铜薄膜的影响[J].材料科学与工程学报,2008,26(4). |
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| 作者姓名： | 刘铮铮 王琦 刘鑫 包杰琼 |
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| 作者单位： | 浙江大学,化学系,浙江,杭州,310027 |
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| 摘 要： | 利用化学气相沉积(CVD)的方法在自组装单分子膜(SAMs)修饰的SiO2表面沉积铜薄膜,并对得到的铜薄膜的性质进行表征与分析.通过比较研究发现:在沉积过程中,SAMs的末端基团作为铜沉积的反应位点,末端基团与铜之间的相互作用力越强,则铜在基材表面的沉积与附着能力越强,而且SAMs阻挡铜原子扩散进入硅内部的效果越好.而SAMs的生长取向也会对铜沉积时的晶型产生影响.
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| 关 键 词： | 材料表面与界面 自组装单分子膜(SAMs) 末端官能团 铜薄膜 化学气相沉积 |
Effects of Terminated Functional Groups of Self-assembled Monolayers on Chemical Vapor-deposited Copper Films |
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| LIU Zheng-zheng,WANG Qi,LIU Xin,BAO Jie-qiong.Effects of Terminated Functional Groups of Self-assembled Monolayers on Chemical Vapor-deposited Copper Films[J].Journal of Materials Science and Engineering,2008,26(4). |
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| Authors: | LIU Zheng-zheng WANG Qi LIU Xin BAO Jie-qiong |
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