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Dielectric constant and dissipation factor in LTCVD SiO2 films
Authors:C. Cobianu  C. Pavelescu  V. M. Catuneanu
Affiliation:(1) Microelectronica, Str. Erou Iancu Nicolae, 34-B, R-72996 Bucharest, Romania;(2) Department of Electronics, Polytechnical Institute of Bucharest, O.P. 16, 76206 Bucharest, Romania
Abstract:
Keywords:
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