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基片表面粗糙度对坡莫合金AMR以及磁性能的影响
引用本文:余涛,彭斌,王秋入,王鹏. 基片表面粗糙度对坡莫合金AMR以及磁性能的影响[J]. 功能材料, 2015, 0(14)
作者姓名:余涛  彭斌  王秋入  王鹏
作者单位:电子科技大学 电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054
基金项目:国家自然科学基金资助项目
摘    要:
利用霍尔离子源轰击Si基片获得了不同表面粗糙度的基片,然后利用磁控溅射方法制备了一系列Ta(5nm)/Ni 80Fe 20(12nm)/Ta(2nm)薄膜样品,重点研究了基片表面粗糙度对薄膜结构和各向异性磁阻效应的影响。采用AFM测量基片的表面粗糙度,采用四探针法测量薄膜的各向异性磁阻效应。研究结果表明,随着基片表面粗糙度的增加,坡莫合金的AMR值显著降低,且ΔH显著增加。

关 键 词:Ni 80 Fe 20薄膜  表面粗糙度  各向异性磁阻效应

Effecfs of substrate surface roughness on the anisotropic magnetoresistance of Ni80 Fe20 thin films
YU Tao,PENG Bin,WANG Qiuru,WANG Peng. Effecfs of substrate surface roughness on the anisotropic magnetoresistance of Ni80 Fe20 thin films[J]. Journal of Functional Materials, 2015, 0(14)
Authors:YU Tao  PENG Bin  WANG Qiuru  WANG Peng
Abstract:
Keywords:Ni80 Fe20 thin film  surface roughness  AMR
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