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背景光照对高精度接触角测量的影响
引用本文:赵昆越,田汉民,郭丹,王铮,常卫洪.背景光照对高精度接触角测量的影响[J].仪表技术与传感器,2019(5):100-103.
作者姓名:赵昆越  田汉民  郭丹  王铮  常卫洪
作者单位:河北工业大学电子信息工程学院;天津市电子材料与器件重点实验室
摘    要:接触角测量精度关系到材料表面性能的研究。目前普遍的接触角测量仪由光学成像系统(背景光源、摄像头、样品台、进样器等)和PC机图像处理软件组成,背景光照是决定液滴图像质量的重要因素,间接影响接触角测量的精度;研究了不均匀光照强度对接触角测量的影响,应用图像处理技术对比分析数据,通过Mie光散射理论阐述其原理;并指出在一定范围内,由中心向外部亮度逐渐减小的不均匀背景光照会增大测量误差。

关 键 词:光照强度  接触角  图像处理  精度  光源  MIE散射

Effect of Background Light on High Precision Contact Angle Measurement
ZHAO Kun-yue,TIAN Han-min,GUO Dan,WANG Zheng,CHANG Wei-hong.Effect of Background Light on High Precision Contact Angle Measurement[J].Instrument Technique and Sensor,2019(5):100-103.
Authors:ZHAO Kun-yue  TIAN Han-min  GUO Dan  WANG Zheng  CHANG Wei-hong
Affiliation:(School of Electronic Information Engineering, Hebei University of Technology,Tianjin 300401,China;Tianjin Key Laboratory of Electronic Materials and Devices,Tianjin 300401,China)
Abstract:ZHAO Kun-yue;TIAN Han-min;GUO Dan;WANG Zheng;CHANG Wei-hong(School of Electronic Information Engineering, Hebei University of Technology,Tianjin 300401,China;Tianjin Key Laboratory of Electronic Materials and Devices,Tianjin 300401,China)
Keywords:light intensity  contact angle  image processing  accuracy  light source  Mie scattering
本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录!
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