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化学水浴中氨浓度对沉积ZnS薄膜的影响
引用本文:刘庭芝 多树旺 张萌 向军淮 李明升 胡长员. 化学水浴中氨浓度对沉积ZnS薄膜的影响[J]. 功能材料, 2007, 38(A04): 1508-1511
作者姓名:刘庭芝 多树旺 张萌 向军淮 李明升 胡长员
作者单位:[1]江西科技师范学院江西省材料表面工程重点实验室,江西南昌330038 [2]南昌大学材料科学与工程学院,江西南昌330038
基金项目:基金项目:江西省自然科学基金资助项目(0600035);江西省教育厅科技资助项目(赣教技字[20071280号)
摘    要:
用化学水浴法在玻璃衬底上沉积ZnS薄膜。采用XRD、SEM、nkd-薄膜分析系统对薄膜的形貌、结构和光学性能进行了分析,结果表明:当氨浓度〈1.50mol/L,可获得白点较少、平整性较好的非晶ZnS薄膜,在红移方向上很长的波段内透过率较好,可达95%以上,禁带宽度为3.81eV,折射率随波长的增加而减小,从2.32变化到1.92。有关化学水浴ZnS薄膜折射率的报道极少;当氨浓度〉1.50mol/L时,薄膜白点增多,易龟裂和剥落,结构是立方闪锌矿。

关 键 词:化学水浴 氨浓度 ZnS薄膜 折射率
文章编号:1001-9731(2007)增刊-1508-04
修稿时间:2007-04-06

Effect of NH3 concentrations on ZnS thin films by chemical bath deposition
LIU Ting-zhi,DUO Shu-wang,ZHANG Meng,XIANG Jun-huai,LI Ming-sheng,HU Chang-yuan. Effect of NH3 concentrations on ZnS thin films by chemical bath deposition[J]. Journal of Functional Materials, 2007, 38(A04): 1508-1511
Authors:LIU Ting-zhi  DUO Shu-wang  ZHANG Meng  XIANG Jun-huai  LI Ming-sheng  HU Chang-yuan
Affiliation:1.Jiangxi Key laboratory of Surface Engineering, Jiangxi Science and Technology Normal University, Nanchang 330038, China; 2. College of Materials Science and Engineering, Nanchang Unversity, Nanchang 330038, China
Abstract:
Keywords:ZnS thin film   NH3 concentration   chemical bath deposition   refractive indece
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