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| ＺnO：Al薄膜的制备的工艺参数对其电阻率的影响 | |
| 引用本文： | 姜健,闻立时,等.ＺnO：Al薄膜的制备的工艺参数对其电阻率的影响[J].真空,2000(6):24-28. |
| 作者姓名： | 姜健 闻立时 |
| 作者单位： | [1]东北大学，辽宁沈阳 [2]１１０００６ |
| 摘 要： | ＺnO:Al是一种Ｎ型半导体材料,帷有透明氧化导电薄膜优良的光电特性，本文着重介绍了直流和射频磁控反应溅射下，种种上工艺参数对ＺnO:Al薄膜电阻率的影响。 |
| 关 键 词： | 电阻率 半导体薄膜 氧化锌／铝 制备 磁控溅射 |
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