实现多层混合刻蚀薄膜大面积均匀的方法浅探讨

采用多层光刻工艺结合氩离子铣的混合刻蚀方法，刻蚀高Ｔｃ超导ＹＢａＣｕＯ／ＺｒＯ２（１００）薄膜图形，取得了较好的结果，在进行氩离子铣的工艺步骤中，使用普通氩离子铣设备，但采取了一定的措施－使被刻样吕在刻蚀台座上可移动。