| Ni-P底层对化学镀Co-P薄膜性能的影响 |
| |
| 引用本文： | 王海成,杜中美,王立锦,滕蛟,李明华,于广华. Ni-P底层对化学镀Co-P薄膜性能的影响[J]. 功能材料, 2008, 39(1): 51-53 |
| |
| 作者姓名： | 王海成 杜中美 王立锦 滕蛟 李明华 于广华 |
| |
| 作者单位： | 北京科技大学,材料科学与工程学院,北京,100083;北京科技大学,材料科学与工程学院,北京,100083;北京科技大学,材料科学与工程学院,北京,100083;北京科技大学,材料科学与工程学院,北京,100083;北京科技大学,材料科学与工程学院,北京,100083;北京科技大学,材料科学与工程学院,北京,100083 |
| |
| 摘 要： | 采用化学镀工艺制备了Co-P磁记录薄膜,研究了非晶无磁Ni-P底层对Co-P薄膜的生长及性能的影响.研究结果表明:非晶无磁Ni-P底层对Co-P薄膜的晶体结构及取向无明显影响,镀态的Co-P薄膜均为密排六方结构, (100)、(002)、(101)的择优取向无明显变化;但非晶无磁的Ni-P底层可以提高薄膜的均匀性和一致性,表面无明显缺陷;细化晶粒,平均晶粒尺寸为100～150nm;提高Co-P薄膜的磁性能,矫顽力可达4.54×104A/m.当记录信号脉冲时,与铝基体上直接施镀相比,在Ni-P底层上的Co-P磁记录薄膜输出信号幅值均匀稳定,信噪比良好.
|
| 关 键 词： | 化学镀 Co-P 磁记录薄膜 Ni-P |
| 文章编号： | 1001-9731（2008）01-0051-03 |
| 收稿时间： | 2007-05-10 |
| 修稿时间： | 2007-10-19 |
The influence of Ni-P underlayer on electroless Co-P thin film properties |
| |
| WANG Hai-cheng,DU Zhong-mei,WANG Li-jin,TENG Jiao,LI Ming-hua,YU Guang-hua. The influence of Ni-P underlayer on electroless Co-P thin film properties[J]. Journal of Functional Materials, 2008, 39(1): 51-53 |
| |
| Authors: | WANG Hai-cheng DU Zhong-mei WANG Li-jin TENG Jiao LI Ming-hua YU Guang-hua |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | electroless deposition Co-P thin film magnetic recording film Ni-P underlayer |
| 本文献已被 万方数据 等数据库收录！ |
|
