声表面波器件基片金刚石薄膜厚度的测量 |
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引用本文: | 陈希明 岳澄杨保和,曲长庆傅德欣 熊瑛. 声表面波器件基片金刚石薄膜厚度的测量[J]. 光电子.激光, 2003, 14(8): 824-826 |
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作者姓名: | 陈希明 岳澄杨保和 曲长庆傅德欣 熊瑛 |
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作者单位: | 天津理工学院光电信息工程系,天津,300191;天津大学机械工程学院,天津,300072 |
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基金项目: | 天津市自然科学基金重点资助项目(013800611、003800211),天津市教委科技发展基金资助项目(20010520) |
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摘 要: | 研究了声表面波器件(SAWD)基片金刚石膜的厚度测量方法。通过光切显微镜和扫描电镜(SEM)测量结果的比较,讨论了测量精度。在沉积制备多层薄膜SAWD基片中金刚石薄膜的实验过程中,选用光切显微镜测量膜厚,测量精度0.5~1.0μm。
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关 键 词: | 声表面波器件(SAWD) 金刚石薄膜 扫描电镜(SEM) 光切显微镜 |
文章编号: | 1005-0086(2003)08-0824-03 |
修稿时间: | 2003-01-22 |
The Thickness Measurement of Diamond Film for a SAWD Substrate |
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Abstract: | |
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Keywords: | diamond film scanning electron microscope(SEM) optical section microscope |
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