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声表面波器件基片金刚石薄膜厚度的测量
引用本文:陈希明 岳澄杨保和,曲长庆傅德欣 熊瑛. 声表面波器件基片金刚石薄膜厚度的测量[J]. 光电子.激光, 2003, 14(8): 824-826
作者姓名:陈希明 岳澄杨保和  曲长庆傅德欣 熊瑛
作者单位:天津理工学院光电信息工程系,天津,300191;天津大学机械工程学院,天津,300072
基金项目:天津市自然科学基金重点资助项目(013800611、003800211),天津市教委科技发展基金资助项目(20010520)
摘    要:研究了声表面波器件(SAWD)基片金刚石膜的厚度测量方法。通过光切显微镜和扫描电镜(SEM)测量结果的比较,讨论了测量精度。在沉积制备多层薄膜SAWD基片中金刚石薄膜的实验过程中,选用光切显微镜测量膜厚,测量精度0.5~1.0μm。

关 键 词:声表面波器件(SAWD)  金刚石薄膜  扫描电镜(SEM)  光切显微镜
文章编号:1005-0086(2003)08-0824-03
修稿时间:2003-01-22

The Thickness Measurement of Diamond Film for a SAWD Substrate
Abstract:
Keywords:diamond film  scanning electron microscope(SEM)  optical section microscope
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