“ГОИ”全俄科学中心光学镀膜工作概况

在“С．И．瓦维洛夫国家光学研究所(ГОИ)”光学镀层工作是30年代在И．В．Гребевшиков院士领导下开始的。到目前为止形成一个高度熟练的专家集体。它完成同光学镀膜工艺有关的一整套的工作。在镀制中采用所有现代的光学镀层的真空方法：电阻法和在高真空中的电子束蒸发法，阴极法，离子等离子体法，磁溅射法。镀层工艺中成功地采用离子加工方法，其中包括基板的离子净化，离子辅助(ассистрование)，离子涂抹(платирование)。