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| 原子层沉积技术的应用现状及发展前景 | |
| 作者姓名： | 廖荣 康唐飞 邓世杰 吴海洋 王敬云 |
| 摘 要： | 介绍了原子层沉积(ALD)技术的应用现状及发展前景,包括ALD原理、ALD技术的主要优势、ALD在各方面的应用,如半导体及纳米电子学应用、光电材料及器件、微机电系统(MEMS)、纳米结构及其它应用.ALD工艺所需温度比其他化学气相沉积方法远远降低,温度约为300℃.ALD对薄膜的均匀性有更好的控制,由于原子层技术的独特... |
| 关 键 词： | 原子层沉积 纳米结构 半导体 介电层 芯片 |
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