| 弧流对Ti—Si—C膜层结构与性能的影响 |
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| 引用本文： | 宋贵宏,刘鑫,李德元,陈立佳.弧流对Ti—Si—C膜层结构与性能的影响[J].材料科学与工艺,2018,26(6):62-67. |
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| 作者姓名： | 宋贵宏 刘鑫 李德元 陈立佳 |
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| 作者单位： | 沈阳工业大学 材料科学与工程学院,沈阳 110870,沈阳工业大学 材料科学与工程学院,沈阳 110870,沈阳工业大学 材料科学与工程学院,沈阳 110870,沈阳工业大学 材料科学与工程学院,沈阳 110870 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(51772193). |
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| 摘 要： | 电弧离子镀沉积膜层具有放电温度高、离化率高和沉积速率快等特点，可以在较低温度下促进Si—C成键，是获得含Si—C键膜层的一种经济实惠的方法。本文使用Ti—Si合金靶，在Ar和C2H2气体环境下，在铝合金衬底上制备了Ti—Si—C膜层，并分析和研究了不同弧流下沉积膜层的相组成、磨损和腐蚀性能。结果显示，不同弧流下沉积的膜层是由B1型TiC相、立方结构的SiC相和金属Ti相组成的复合结构；大弧流由于放电温度高，有利于膜层中Si—C键的形成.弧流增加，靶材蒸发速率加快，沉积膜层的厚度增加，同时，由于靶材附近单位时间内气化和离化的Si和Ti数量增加，沉积膜层中Si和Ti含量和增加而C含量降低.弧流增加，膜层中碳化物总含量减少，造成膜层摩擦系数逐渐增加而耐磨性降低，但膜层的耐腐蚀性能增加.适当弧流下的沉积膜层可获得优异的磨损和腐蚀综合性能.
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| 关 键 词： | Ti—Si—C复合膜层 SiC和TiC相 电弧离子镀 磨损性能 腐蚀性能 |
| 收稿时间： | 2017/11/27 0:00:00 |
Influence of arc current on structure and properties of Ti-Si-C coatings |
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| SONG Guihong,LIU Xin,LI Deyuan and CHEN Lijia.Influence of arc current on structure and properties of Ti-Si-C coatings[J].Materials Science and Technology,2018,26(6):62-67. |
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| Authors: | SONG Guihong LIU Xin LI Deyuan and CHEN Lijia |
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| Affiliation: | School of Materials Science and Technology, Shenyang University of Technology, Shenyang 110870, China,School of Materials Science and Technology, Shenyang University of Technology, Shenyang 110870, China,School of Materials Science and Technology, Shenyang University of Technology, Shenyang 110870, China and School of Materials Science and Technology, Shenyang University of Technology, Shenyang 110870, China |
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