| 部分热压法制备氮化硅多孔陶瓷研究 |
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| 引用本文： | 赵三团,王威,李先容,徐俊.部分热压法制备氮化硅多孔陶瓷研究[J].稀有金属材料与工程,2008,37(Z1):737-740. |
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| 作者姓名： | 赵三团 王威 李先容 徐俊 |
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| 作者单位： | 表面物理与化学国家重点实验室,四川,绵阳,621907 |
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| 摘 要： | 采用部分热压法,以Y2O3,MgO和CaO为添加剂,制备了气孔率在0.009～0.236的氮化硅多孔陶瓷.结果表明:制备的氮化硅多孔陶瓷是由众多长柱状的β-Si3N4晶粒及部分残余的α-Si3N4构成,气孔由长柱状的β-Si3N4搭接形成,其形状不规则.同时分析了氮化硅多孔陶瓷的力学性能与气孔率的关系,得出了气孔率与抗弯强度及断裂韧性的关系.
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| 关 键 词： | 部分热压 氮化硅 多孔陶瓷 热压法 法制 氮化硅 多孔陶瓷 陶瓷研究 Hot Pressing Partial Silicon Nitride Porous Properties 断裂韧性 抗弯强度 关系 力学性能 分析 规则 形状 搭接 气孔率 构成 |
| 文章编号： | 1002-185X(2008)S1-737-04 |
| 修稿时间： | 2007年9月24日 |
Fabrication and Properties of Porous Silicon Nitride by Partial Hot Pressing |
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| Zhao Santuan,Wang Wei,Li Xianrong,Xu Jun.Fabrication and Properties of Porous Silicon Nitride by Partial Hot Pressing[J].Rare Metal Materials and Engineering,2008,37(Z1):737-740. |
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| Authors: | Zhao Santuan Wang Wei Li Xianrong Xu Jun |
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