| SU-8胶曝光衍射效应的模拟及丙三醇补偿方法 |
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| 引用本文： | 朱真,黄庆安,李伟华,周再发,冯明.SU-8胶曝光衍射效应的模拟及丙三醇补偿方法[J].半导体学报,2007,28(12). |
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| 作者姓名： | 朱真 黄庆安 李伟华 周再发 冯明 |
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| 作者单位： | 东南大学MEMS教育部重点实验室,南京,210096 |
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| 摘 要： | 基于SU-8胶的UV-LIGA技术是MEMS中制备高深宽比结构的一种重要方法,但由于衍射效应会使结构的侧壁不再垂直.根据菲涅耳衍射模型,考虑了丙三醇/SU-8界面的反射和折射现象,模拟了丙三醇填充在掩膜版和光刻胶之间时的刻蚀图形.计算结果与已有的实验进行了比较,模型基本可以描述这种光刻过程,可在设计时作为参考.
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| 关 键 词： | SU-8胶 菲涅耳衍射 丙三醇 |
Simulation of the Diffraction Effect in Exposure on a SU-8 Photoresist and the Glycerol Compensated Method |
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| Zhu Zhen,Huang Qing'an,Li Weihua,Zhou Zaifa,Feng Ming.Simulation of the Diffraction Effect in Exposure on a SU-8 Photoresist and the Glycerol Compensated Method[J].Chinese Journal of Semiconductors,2007,28(12). |
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| Authors: | Zhu Zhen Huang Qing'an Li Weihua Zhou Zaifa Feng Ming |
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