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AlGaN/AlN/GaN肖特基二极管的电学性能
引用本文:王新华,王晓亮,肖红领,王翠梅,冉军学,罗卫军,王保柱,冯春,杨翠柏,马志勇,胡国新,曾一平,李晋闽.AlGaN/AlN/GaN肖特基二极管的电学性能[J].半导体学报,2007,28(Z1).
作者姓名:王新华  王晓亮  肖红领  王翠梅  冉军学  罗卫军  王保柱  冯春  杨翠柏  马志勇  胡国新  曾一平  李晋闽
作者单位:中国科学院半导体研究所,北京,100083
摘    要:利用金属有机化学气相淀积(MOCVD)方法生长的AlGaN/AlN/GaN/蓝宝石材料制备了AlGaN肖特基二极管.器件的肖特基接触和欧姆接触分别为Ti/Pt和Ti/Al/Ti/Au,均采用电子束蒸发的方法沉积.AlGaN表面欧姆接触的比接触电阻率为7.48×10-4Ω/cm2,器件的I-V测试表明该AlGaN肖特基二极管具有较好的整流特性.根据器件的正向,I-V特性计算得到器件的势垒高度和理想因子分别为0.57eV和4.83.将器件在300℃中温退火,器件的电学性能有所改善.

关 键 词:AlGaN/AlN/GaN异质结  肖特基二极管  势垒高度

Electrical Characteristic of AlGaN/AlN/GaN Schottky Diode
Wang Xinhua,Wang Xiaoliang,Xiao Hongling,Wang Cuimei,Ran Junxue,Luo Weijun,Wang Baozhu,Feng Chun,Yang Cuibai,Ma Zhiyong,Hu Guoxin,Zeng Yiping,Li Jinmin.Electrical Characteristic of AlGaN/AlN/GaN Schottky Diode[J].Chinese Journal of Semiconductors,2007,28(Z1).
Authors:Wang Xinhua  Wang Xiaoliang  Xiao Hongling  Wang Cuimei  Ran Junxue  Luo Weijun  Wang Baozhu  Feng Chun  Yang Cuibai  Ma Zhiyong  Hu Guoxin  Zeng Yiping  Li Jinmin
Abstract:
Keywords:
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