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籽晶偏向对高纯半绝缘4H-SiC晶体影响的研究
引用本文:侯晓蕊,王英民,魏汝省,李斌,王利忠,田牧,刘燕燕,淮珍,王程,王光耀. 籽晶偏向对高纯半绝缘4H-SiC晶体影响的研究[J]. 电子工业专用设备, 2019, 48(3)
作者姓名:侯晓蕊  王英民  魏汝省  李斌  王利忠  田牧  刘燕燕  淮珍  王程  王光耀
作者单位:山西烁科晶体有限公司,山西太原030024;中国电子科技集团公司第二研究所,山西太原030024;山西烁科晶体有限公司,山西太原,030024
基金项目:国家国际科技合作专项基金;山西省自然科学基金;创新基金;山西省科技重大专项
摘    要:采用PVT法得到高纯4H-SiC体单晶。研究了0°、1°、4°晶体对晶体台阶流、晶体结晶质量、晶体缺陷、晶体电学性能的影响;晶体台阶流采用奥林巴斯显微镜进行表征,晶体缺陷采用莱卡体系显微镜进行表征,晶体结晶质量采用高分辨XRD进行表征,晶体电学性能采用非接触电阻率测试仪进行表征。实验结果表明:4°籽晶生长的晶体缺陷最少,1°与4°籽晶生长的晶体结晶质量相当,0°籽晶生长的晶体电学性能最均匀。

关 键 词:高纯4H-SiC  籽晶  晶片缺陷  结晶质量  电学性能

Research into the Influencing Factor of Seed on High Purity 4H-SiC Crystal
Abstract:
Keywords:
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