PFN基瓷料居里点调节机制及二次合成技术 |
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引用本文: | 江涛,熊茂仁,涂斌.PFN基瓷料居里点调节机制及二次合成技术[J].电子元件与材料,1992(6). |
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作者姓名: | 江涛 熊茂仁 涂斌 |
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作者单位: | 华南理工大学
(江涛,熊茂仁),华南理工大学(涂斌) |
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摘 要: | 从瓷料配方设计的角度出发,讨论了PFN基独石电容瓷料的居里点调节机制,并列举出常用的移动剂。同时介绍PFN的一次高温煅烧及二次煅烧合成技术对钙钛矿相形成的影响。二次合成技术是提高PFN基瓷料性能的关键工艺之一。
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关 键 词: | 铌铁酸铅基陶瓷 居里点 钙钛矿晶相 合成技术 二次煅烧 |
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