| 二氧化硅基波导薄膜的制备方法 |
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| 引用本文： | 朱晓辉,夏君旨.二氧化硅基波导薄膜的制备方法[J].山东陶瓷,2006,29(3):17-19. |
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| 作者姓名： | 朱晓辉 夏君旨 |
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| 作者单位： | 唐山工业职业技术学院,唐山,063020 |
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| 摘 要： | 本文总结了目前制备二氧化硅基波导薄膜的各种制备工艺,包括广泛采用的等离子增强化学气相沉积法(PECVD)和火焰水解法(FHD)以及低压化学气相沉积法、溅射法、离子交换法、离子注入法和溶胶—凝胶法等制备方法,并对各种工艺的原理、特点和应用现状进行了详细的介绍。
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| 关 键 词： | 二氧化硅基波导薄膜 制备工艺 |
| 文章编号： | 1005-0639(2006)03-0017-03 |
| 收稿时间： | 2006-04-06 |
| 修稿时间： | 2006年4月6日 |
Typical Fabrication Methods of Silica Based Waveguide Film |
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| ZHU Xiao-hui,XIA Jun-zhi.Typical Fabrication Methods of Silica Based Waveguide Film[J].Shandong Ceramics,2006,29(3):17-19. |
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| Authors: | ZHU Xiao-hui XIA Jun-zhi |
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| Affiliation: | Tangshan Industrial Vocation - Technical College, Tangshan 063020 |
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| Abstract: | Several typical fabrication methods of silica based waveguide film,such as plasma enhanced chemical vapor deposition method,the flame hydrolysis method,the low pressure CVD,sputtering,ion exchange,ion implantation,sol-gel method,are reviwed.The processes,characteristics and the application of the methods are also introduced respectively. |
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| Keywords: | Silica Based Waveguide Film Preparation Craft Summary |
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