| ECR-RF双功率源等离子体化学气相沉积制备类金刚石薄膜的研究 |
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| 引用本文： | 桑利军,陈强. ECR-RF双功率源等离子体化学气相沉积制备类金刚石薄膜的研究[J]. 包装工程, 2008, 29(10) |
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| 作者姓名： | 桑利军 陈强 |
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| 作者单位： | 北京印刷学院印刷,包装材料与技术北京市重点实验室,北京,102600;北京印刷学院印刷,包装材料与技术北京市重点实验室,北京,102600 |
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| 摘 要： | ![]()
利用微波ECR加射频功率源等离子体化学气相沉积技术,以CH4为碳源气体,Ar气为稀释气体,在硅片(100)上制备了类金刚石薄膜.Raman光谱证实了薄膜的类金刚石特性;傅立叶变换红外光谱表明薄膜中存在明显的C-H键结构.采用AFM观察了表面形貌,均方根粗糙度大约为1.489nm,表明薄膜表面比较光滑.最后对其进行了摩擦性能测试,薄膜的平均摩擦系数为0.102.
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| 关 键 词： | 微波ECR等离子体化学气相沉积 类金刚石薄膜 平均摩擦系数 |
Study of Diamond-like Carbon Films Prepared by ECR-RF Dual-Power Source Plasma Chemical Vapor Deposition |
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| SANG Li-jun,CHEN Qiang. Study of Diamond-like Carbon Films Prepared by ECR-RF Dual-Power Source Plasma Chemical Vapor Deposition[J]. Packaging Engineering, 2008, 29(10) |
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| Authors: | SANG Li-jun CHEN Qiang |
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| Abstract: | ![]()
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| Keywords: | |
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