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| 中频双靶反应磁控溅射制备TiO2膜的一些探索 | |
| 引用本文： | 赵来,刘翔宇,许生,范垂祯,高文波,陈旭,杨美芹,查良镇.中频双靶反应磁控溅射制备TiO2膜的一些探索[J].真空,2003(1):17-20. |
| 作者姓名： | 赵来 刘翔宇 许生 范垂祯 高文波 陈旭 杨美芹 查良镇 |
| 作者单位： | 1. 清华大学电子工程系,北京,100084 2. 深圳豪威真空光电子股份有限公司,深圳,518057 3. 深圳豪威真空光电子股份有限公司,深圳,518057;深圳市真空技术工程研究开发中心,深圳,518057 |
| 摘 要： | 具有高折射率的TiO2膜在反射型液晶显示器的关键部件高反射率背板膜系的制备中起重要作用，本文使用国内首家在线中频双靶反应磁控溅射设备进行了制备TiO2膜的探索，完成了相应的膜层测试与分析。实验结果表明双靶磁控反射溅射可以制备高折射率的TiO2膜，实验还从折射率的角度证明中频双靶反应溅射与直流反应溅射的效果一致,为进一步提高膜层沉积速率以适应工业生产需求需要引入更有效的溅射过程控制手段。 |
| 关 键 词： | 反射型液晶显示器 中频双靶反应磁控溅射 制备 TiO2膜 二氧化钛 |
| 文章编号： | 1002-0322(2003)01-0017-04 |
| 修稿时间： | 2002年8月23日 |
Deposition of TiO2 by medium frequency reactive dual magnetron sputtering |
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| ZHAO Lai ,LIU Xiang yu ,XU Sheng ,FAN Chui zhen ,GAO Wen bo ,CHEN Xu ,YANG Mei qin ,CHA Liang zhen.Deposition of TiO2 by medium frequency reactive dual magnetron sputtering[J].Vacuum,2003(1):17-20. | |
| Authors: | ZHAO Lai LIU Xiang yu XU Sheng FAN Chui zhen GAO Wen bo CHEN Xu YANG Mei qin CHA Liang zhen |
| Affiliation: | ZHAO Lai 1,LIU Xiang yu 1,XU Sheng 2,FAN Chui zhen 2,3,GAO Wen bo 2,3,CHEN Xu 1,YANG Mei qin 2,CHA Liang zhen 1 |
| Abstract: | TiO 2 plays an important role in the deposition of the high reflective optic multi layers for a reflective liquid crystal display (LCD) due to its high refractive index. Deposition of TiO 2 with an on line medium frequency (MF) reactive dual magnetron sputtering system is reported, and film properties are measured and analyzed. The result shows that a high refractive index TiO 2 could be deposited by MF reactive sputtering, however, it needs a more effective method to control the process in order to increase the deposition rate. It is confirmed that the result of MF sputtering agrees with the result of DC sputtering by means of measuring refractive index. |
| Keywords: | reflective LCD MF reactive dual magnetron sputtering TiO 2 |
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