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| L—B膜在光刻技术中的应用 | |
| 引用本文： | 林慈,韦钰.L—B膜在光刻技术中的应用[J].半导体技术,1988(2). |
| 作者姓名： | 林慈 韦钰 |
| 作者单位： | 南京工学院生物医学工程系 (林慈)，南京工学院生物医学工程系(韦钰) |
| 摘 要： | 光刻是一种将图形复印和腐蚀相结合的精密表面加工技术.在半导体平面管和集成电路的生产过程中,光刻的目的就是按照设计的要求,在氧化硅或金属膜上,刻蚀出与掩模版完全对应的或预计的几何图形,以实现选择性扩散和金属膜布线的目的. |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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