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| （日本）电子产品成膜技术的动向 | |
| 引用本文： | 伊藤,隆.（日本）电子产品成膜技术的动向[J].真空,1998(3):1-10. |
| 作者姓名： | 伊藤 隆 |
| 作者单位： | 日本真空技术株式会社半导体电子机器营业本部 |
| 摘 要： | 本文介绍了平板显示器制造过程中真空设备的应用，其中介绍了液晶制造过程中所应用的溅射成膜工艺和设备，以及低温多晶硅ＴＦＴ的成膜技术。 |
| 关 键 词： | 薄膜晶体管 等离子体显示器 电子产品 成膜技术 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |
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