| TiAl-W-Si合金中的偏析与析出相的分析电子显微术研究 |
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| 引用本文： | 于荣,贺连龙,程志英,朱静,叶恒强.TiAl-W-Si合金中的偏析与析出相的分析电子显微术研究[J].金属学报,2002,38(Z1):444-448. |
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| 作者姓名： | 于荣 贺连龙 程志英 朱静 叶恒强 |
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| 作者单位： | 1. 中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室,沈阳,110016
2. 清华大学材料科学与工程研究所电子显微学实验室,北京,100084 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目 |
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| 摘 要： | 用高空间分辨分析电子显微术研究了TiAl-W-Si合金中B2相的析出行为和元素W的分布.结果表明,α2/γ相界面台阶由于W的富集而成为B2析出相的择尤形核位置.B2相中,高达三分之一的Al原子被W原子置换,而在γ相中只固溶了很有限的W.另外,W也偏析在α2/γ和B2/γ相界面上.这些结果合理地解释了W对提高TiAl合金蠕变性能的显著作用.
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| 关 键 词： | 分析电子显微术 TiAl 析出相 偏析 |
| 文章编号： | 0412-1961(2002)S-S444-05 |
| 修稿时间： | 2002年3月25日 |
INVESTIGATIONS OF SEGREGATION AND PRECIPITATES IN A TiAl-W-Si ALLOY BY ANALYTICAL ELECTRON MICROSCOPY |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | TiAl |
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