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Density of states measurements in a-Si:H and a-Si:H/nc-Si:H multilayer structures prepared by hot wire chemical vapor deposition
Affiliation:1. STMicroelectronics, Crolles, France;2. CEA-LETI, Grenoble, France;3. IMEP-LAHC, Université Grenoble Alpes, Grenoble, France
Abstract:
Keywords:a‐Si:H/nc‐Si:H multilayer structure  Density of states  Hot wire chemical vapor deposition  Persistent photoconductivity  Space-charge limited current
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