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溅射FeZrN薄膜的结构和磁性能
作者姓名:耿胜利  肖春涛  杨正
作者单位:兰州大学物理系
摘    要:
用射频溅射法在Ar+N2混和气氛中制备了FeZrN膜,研究了制备条件及退火温度对样品结构及磁性能的影响。样品膜均由(110)取向的α-Fe小晶粒组成。Zr的添加有效地抑制了FeZrN膜中Fe4N相的生成,而Zr和N的加入不仅有利于减小晶粒尺寸,而且能抑制非磁性初生层的生长,改善了软磁性能的热稳定性。良好的软磁性能是跟细晶粒结构和适当的晶格形变密切相关的

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