| 氮离子注入钨的微观分析 |
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| 引用本文： | 汪德志,陈剑宣,郑振华. 氮离子注入钨的微观分析[J]. 真空科学与技术学报, 2000, 20(2) |
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| 作者姓名： | 汪德志 陈剑宣 郑振华 |
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| 摘 要： | 对不同剂量N 离子注入钨的试样进行了XRD及XPS微观分析 ,研究注入层的元素、成分、化学态以及有关的相结构。结果表明 ,注入层除了单质W外 ,还有氧化物WO3 ,氮 氧 钨的化合物 ,如Wx(N ,O)以及氮化物δ WN ,随着氮离子注入剂量的增加 ,Wx(N ,O)减少 ,而δ WN量增加 ,污染物WO3 也相应减少。文中对有关机理作了相应的探讨。
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| 关 键 词： | 离子注入 钨 相结构 |
Microanalyses of N~ Implanted Tungsten |
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| Wang Dezhi,Chen Jianxuan,Zheng Zhenhua,Zhang Hailong,Huang Ningkang Key Lab.for Radiation Physics Technology of Education Ministry of ChinaInstitute of Nuclear Science and Technology,Sichuan University,Chengdu. Microanalyses of N~ Implanted Tungsten[J]. JOurnal of Vacuum Science and Technology, 2000, 20(2) |
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| Authors: | Wang Dezhi Chen Jianxuan Zheng Zhenhua Zhang Hailong Huang Ningkang Key Lab.for Radiation Physics Technology of Education Ministry of ChinaInstitute of Nuclear Science Technology Sichuan University Chengdu |
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| Affiliation: | Wang Dezhi,Chen Jianxuan,Zheng Zhenhua,Zhang Hailong,Huang Ningkang Key Lab.for Radiation Physics Technology of Education Ministry of ChinaInstitute of Nuclear Science and Technology,Sichuan University,Chengdu,610064 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Ion implantation Tungsten Phase structures |
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