|
|||||
|
|
| MOCVD法氧化锌单晶薄膜生长 | |
| 引用本文： | 刘博阳,杜国同,杨小天,赵佰军,张源涛,高锦岳,刘大力,杨树人.MOCVD法氧化锌单晶薄膜生长[J].液晶与显示,2004,19(2):99-102. |
| 作者姓名： | 刘博阳 杜国同 杨小天 赵佰军 张源涛 高锦岳 刘大力 杨树人 |
| 作者单位： | 1. 吉林大学,电子科学与工程学院,集成光电子国家联合重点实验室,吉林,长春,130021;吉林大学,物理学院,相干光、原子与分子光谱教育部重点实验室,吉林,长春,130021 2. 吉林大学,电子科学与工程学院,集成光电子国家联合重点实验室,吉林,长春,130021 3. 吉林大学,物理学院,相干光、原子与分子光谱教育部重点实验室,吉林,长春,130021 |
| 基金项目： | 国家“8 63”高技术项目 (No .2 0 0 1AA3 1113 0 )，国家自然科学基金资助项目 (No .60 1770 0 7，No .60 1760 2 6) |
| 摘 要： | 介绍了氧化锌材料的一些突出特性以及生长氧化锌的方法。并通过金属有机化学气相沉积 (MOCVD)方法制备了优良的氧化锌薄膜。使用X射线衍射 (XRD)谱和室温光致发光(PL)光谱对所生长氧化锌薄膜的晶体质量和光学特性进行了研究。X射线衍射谱图显示仅在2θ =34.72°处有一个很陡峭的ZnO (0 0 2 )晶面衍射峰 ,说明所制备的氧化锌薄膜c轴取向高度一致。此衍射峰的半高宽为 0 .2 82° ,显示出较好的晶体质量。在室温光致发光谱中 ,薄膜的紫外发光强度与深能级复合发光的强度比超过 10∶1,表明薄膜的光学质量较高 |
| 关 键 词： | 氧化锌 金属有机化学气相沉积法 单晶薄膜 薄膜生长 X射线衍射分析 光致发光光谱 |
| 文章编号： | 1007-2780(2004)02-0099-04 |
| 修稿时间： | 2003年10月16 |
Study of ZnO Film Grown by MOCVD |
|
| LIU Bo-yang.Study of ZnO Film Grown by MOCVD[J].Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays,2004,19(2):99-102. | |
| Authors: | LIU Bo-yang |
| Affiliation: | LIU Bo-yang~ |
| Abstract: | |
| Keywords: | ZnO MOCVD film growth |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ | |