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磁控溅射用CoCrPt系靶材制备技术研究进展
引用本文:陈松,耿永红,王传军,闻明,张俊敏,毕珺,李艳琼,谭志龙,张昆华.磁控溅射用CoCrPt系靶材制备技术研究进展[J].贵金属,2013,34(1):74-78.
作者姓名:陈松  耿永红  王传军  闻明  张俊敏  毕珺  李艳琼  谭志龙  张昆华
作者单位:昆明贵金属研究所稀贵金属综合利用新技术国家重点实验室,昆明,650106
基金项目:国家科技部院所技术开发专项,云南省院所技术开发专项,国家基金项目,云南省基金项目
摘    要:目前在高密度磁记录薄膜中大量使用到CoCrPt系溅射靶材。重点介绍了CoCrPt系磁性靶材国内外发展现状,靶材制备中的主要工艺以及质量控制内容和方法,最后分析了存在的技术难点和需要解决的问题。

关 键 词:金属材料  粉末冶金  CoCrPt  溅射靶材  熔铸法  质量控制

Research Progress of CoCrPt System Targets Fabrication
CHEN Song,GENG Yonghong,WANG Chuanjun,WEN Ming,ZHANG Junmin,BI Jun,LI Yanqiong,TAN Zhilong,ZHANG Kunhu,GUAN Weiming.Research Progress of CoCrPt System Targets Fabrication[J].Precious Metals,2013,34(1):74-78.
Authors:CHEN Song  GENG Yonghong  WANG Chuanjun  WEN Ming  ZHANG Junmin  BI Jun  LI Yanqiong  TAN Zhilong  ZHANG Kunhu  GUAN Weiming
Affiliation:(State Key Laboratory of Advanced Technologies for Comprehensive Utilization of Platinum Metals,Kunming Institute of Precious Metals,Kunming 650106,China)
Abstract:
Keywords:
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