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溅射工艺参数对TiAlN薄膜力学性能及结构成分的影响
引用本文:陈蓓蓓,蔡珣,周滔.溅射工艺参数对TiAlN薄膜力学性能及结构成分的影响[J].机械工程材料,2007,31(9):15-17.
作者姓名:陈蓓蓓  蔡珣  周滔
作者单位:上海交通大学材料科学与工程学院,上海,200240
摘    要:采用反应磁控溅射法和钛一铝镶嵌靶制备TiAlN薄膜;运用纳米压入硬度测试仪、划痕仪和能谱仪、X射线衍射仪等对薄膜进行表征;研究了制备工艺参数对薄膜力学性能、薄膜成分及组织结构的影响.结果表明:随着氮气分压增大,薄膜厚度降低,薄膜(111)取向减弱,(220)和(311)取向增强,薄膜中的氮原子含量逐渐增多,而钛、铝原子含量逐渐减少;随着基体偏压增大,薄膜纳米硬度和膜/基界面临界载荷均逐渐增大,纳米硬度最高可迭48.73 GPa,膜/基界面临界载荷最高可达40 N.

关 键 词:TiAlN薄膜  磁控溅射  力学性能  工艺参数  工艺参数  TiAlN  薄膜力学性能  结构成分  影响  Mechanical  Properties  Parameters  Deposition  Sputtering  Effect  Coatings  Composition  临界载荷  界面  纳米硬度  基体偏压  铝原子  含量  氮原子  取向增强
文章编号:1000-3738(2007)09-0015-03
修稿时间:2006年12月1日

Effect of Sputtering Deposition Parameters on Mechanical Properties,Microstructure and Composition of TiAlN Coatings
CHEN Bei-bei,CAI Xun,ZHOU Tao.Effect of Sputtering Deposition Parameters on Mechanical Properties,Microstructure and Composition of TiAlN Coatings[J].Materials For Mechanical Engineering,2007,31(9):15-17.
Authors:CHEN Bei-bei  CAI Xun  ZHOU Tao
Abstract:
Keywords:
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